雙靶磁控濺射儀

1、引言

雙靶磁控濺射儀是新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)為配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)為配套直流電源用于導(dǎo)電類材料的濺射鍍膜;可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛;體積小，操作簡便。

2、主要技術(shù)指標(biāo)

電源：220V 50Hz

大功率：<560W（不含真空泵）

極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到E-5mbar）

工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度）

靶槍數(shù)量：2個(gè)（可選配其他數(shù)量）

靶槍冷卻方式：水冷

靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）

直流濺射功率：500W（可選）

射頻濺射功率：300W/500W（可選）

載樣臺(tái)：?140mm

載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

保護(hù)氣體：Ar、N2等惰性氣體

進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣，每個(gè)流量為100SCCM

尺寸：500mm×560mm×660mm

整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm

重量：160kg

我公司專業(yè)生產(chǎn)銷售：洛式硬度計(jì)，維式硬度計(jì)，布氏硬度計(jì)，顯微維氏硬度計(jì)，便攜式硬度計(jì)，磁力式洛式硬度計(jì)，里氏硬度計(jì)，超聲波硬度計(jì)，金相切割機(jī)，全自動(dòng)金相試樣切割機(jī)，金相磨拋機(jī)，金相預(yù)磨機(jī)，金相拋光機(jī)，全自動(dòng)金相試樣磨拋機(jī)，手動(dòng)金相試樣鑲嵌機(jī)，全自動(dòng)金相鑲嵌機(jī)。金相拋光劑，金相拋光粉，金相砂紙，金相拋光布，金相切割片，冷鑲嵌樹脂，金相鑲嵌粉，導(dǎo)電鑲嵌粉，透明鑲嵌粉，倒置金相顯微鏡，正置金相顯微鏡，進(jìn)口金相顯微鏡，體視顯微鏡，視頻顯微鏡，生物顯微鏡，熒光顯微鏡，手動(dòng)影像測量儀，全自動(dòng)影像測量儀，一鍵閃測儀，測量投影儀。粗糙度儀，輪廓儀，圓柱度儀。