上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機

產品型號：
產品時間：2025-07-20
簡要描述：上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機適用于光譜研究的試樣磨平。
1. 無級調速控制
2. 下方配有吸塵裝置，可吸走磨削物
3. 安全鎖扣，1/4磨面，保護操作員

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產品簡介

上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機

1. 無級調速控制

2. 下方配有吸塵裝置，可吸走磨削物

3. 安全鎖扣，1/4磨面，保護操作員

適用于光譜研究的試樣磨平。

　　在金相試樣制備和光譜分析應用中，試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前*的重要工序。GPM-2-300型光譜磨平機整機采用噴塑工藝制作，雙盤獨立控制，磨盤無級調速，*罩殼設計可有效保障磨樣安全，機箱內裝有吸塵裝置可避免環境污染，該機啟動平穩、傳動功率大、噪音低，可滿足不同材料的制備要求，提高試樣的磨拋質量和制備效率，是一種非常理想和功能完善的金相制樣制備。

型號	GMP-2-300
磨盤直徑	300mm
砂紙直徑	300mm
轉速	無級調速100~1400r/min 或四檔速300, 600, 900, 1400 r/min
轉向	順時針或逆時針
電機功率	550W
顯示及操作	數碼管顯示，薄膜按鍵操作，帶吸塵裝置
輸入電源	單相220V, 50Hz, 10A
外形尺寸	820×440×940mm
凈重	122kg

標準配置：

名稱	規格	數量
主機		1臺
磨盤	300mm	2個
砂紙	300mm	2張
內六角扳手	5mm	1把
說明書		1份
合格證		1份

上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機

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